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2024-03-25 15:36:09
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赛道Hyper | 英特(te)尔基辛格:2030年超出三星,节点,nm,Intel
作者:周源/华尔街(jie)见(jian)闻(wen)
英特(te)尔最近更(geng)新了晶圆代工(gong)蓝图:2026-2027年,英特(te)尔1.4/1nm将前后离别投产。这是英特(te)尔初次(ci)官宣(xuan)1nm晶圆代工(gong)时候(hou)表(biao)。
2021年,英特(te)尔首席执行(xing)官帕特(te)·基辛格(Pat Gelsinger)向英特(te)尔的客户和投资人表(biao)露了他订定的大志勃勃的计划(hua),就是在(zai)4年内完成(cheng)5个工(gong)艺节点(7/4/3/20A/18A)的制造,终究目标是从新夺回代工(gong)领(ling)域的领(ling)导(dao)地位。
这项计划(hua)就是到2030年,英特(te)尔外部(bu)代工(gong)规(gui)模将仅次(ci)于台积电,超出 Global Foundries、UMC和三星,成(cheng)为环球第二大代工(gong)场(chang)。
押注18A:2030计划(hua)的核心(xin)
英特(te)尔最新晶圆代工(gong)蓝图表(biao)现,Intel 10A(1nm制程)将于2027岁尾投入临盆/开(kai)辟(非量产),标记着该公司首个1nm节点的到来;Intel 14A(1.4nm)节点将于2026年投入临盆。
从2021年Gelsinger表(biao)露工(gong)艺节点制造计划(hua)至今,基于英特(te)尔首款EUV节点的Intel 4的产品(pin)已经(jing)上(shang)市,其大量量对应(ying)产品(pin)Intel 3也已准备就绪。与此同时,英特(te)尔正在(zai)对2024年和2025年首款全环栅(GAAFET)/RibbonFET做最后的完善事(shi)情(qing)。
根据(ju)最新的晶圆代工(gong)蓝图路线图,在(zai)高性能/高密度(du)赛道上(shang),14A(1.4nm)将是英特(te)尔初次(ci)使用高数值孔径(High-NA)EUV的节点。这一(yi)节点将在(zai)2026年大规(gui)模投入临盆。
这是业界首个使用ASML极紫外光刻机的工(gong)艺节点。那台重15吨、造价高达27亿元的最新一(yi)代光刻机,能制造2纳米以下的开(kai)始进制程。英特(te)尔是目前唯一(yi)拿(na)到这台光刻机设备的公司。
英特(te)尔将其代工(gong)营业押注于High-NA,这与英特(te)尔在(zai)EUV领(ling)域的起步相(xiang)对较(jiao)晚(Intel 4/Meteor Lake是首款产品(pin))形成(cheng)鲜亮对比(之前保守,现在(zai)激进)。目前,英特(te)尔已获(huo)得了迄今为止环球唯一(yi)的高数值孔径扫描仪。
依附(fu)High-NA的技术(shu)性能,14A将成(cheng)为英特(te)尔继(ji)20A/18A合并以后的第一(yi)个完备节点。若统(tong)统(tong)照(zhao)现在(zai)的计划(hua)推进,那末这将是英特(te)尔进一(yi)步巩固其作为晶圆厂工(gong)艺技术(shu)领(ling)导(dao)者的地位的技术(shu)。固然,这还包含在(zai)2026年之前的风险测试中不出现不测。
目前,14A节点的变种包含E(更(geng)高的电压和温度(du),性能提升5%)、P(Plus)(性能提升5%-10%)和T。
值得一(yi)提的是18A工(gong)艺节点。Gelsinger方(fang)才对外公开(kai)透露表(biao)现,“我将整个公司都押注在(zai)了18A制程上(shang)。”Gelsinger此次(ci)重申了18A制程对英特(te)尔的重要性,比2023岁尾的表(biao)态更(geng)加坚定。
18A制程是英特(te)尔重回技术(shu)领(ling)导(dao)地位的加速路线图中的第五个节点,2025年投产,以此从新获(huo)得制程工(gong)艺的领(ling)先(xian)性。
固然实际上(shang)18A并没有采用1.8nm工(gong)艺,但(dan)是英特(te)尔却透露表(biao)现自家的18A制程在(zai)性能和晶体(ti)管密度(du)上(shang),能与台积电1.8nm工(gong)艺相(xiang)称,比台积电2nm制程更(geng)先(xian)进。
若比较(jiao)晶体(ti)管密度(du)和GAA(全环绕(rao)栅极)架构,其实两者(与台积电2nm相(xiang)比)相(xiang)差(cha)无几。
与台积电2nm工(gong)艺相(xiang)比,18A制程具有的“背(bei)面供电”技术(shu)(即英特(te)尔所称的PowerVia)确实比台积电先(xian)进。这项技术(shu)能从芯片(pian)的背(bei)面而不是正面为晶体(ti)管供电。Gelsinger称该项技术(shu)堪(kan)称芯片(pian)行(xing)业的“哈利路亚(ya)”时刻。
除了技术(shu)上(shang)的优势,18A制程也是英特(te)尔大志勃勃的“2030年成(cheng)为环球第二大晶圆代工(gong)场(chang)”计划(hua)的核心(xin)。目前,台积电是环球最大的晶圆代工(gong)企业,三星紧随(sui)厥后。英特(te)尔希望通过(guo)IFS (Intel Foundry Services)部(bu)分取代三星,18A制程被认为是英特(te)尔吸引客户的重要砝码。
微软CEO萨蒂(di)亚(ya)·纳德拉(Satya Nadella)已宣(xuan)布“微软将基于 Intel 18A 工(gong)艺制造芯片(pian)”。
2月22日,英特(te)尔宣(xuan)布已完成(cheng)18A主要产品(pin)Clearwater Forest的流片(pian)。Clearwater是基于英特(te)尔第二代E核的Xeon(Sierra Forest后继(ji)产品(pin)),是英特(te)尔代工(gong)技术(shu)的出色(se)产品(pin)。
由于英特(te)尔工(gong)艺节点获(huo)得了较(jiao)为显著的希望,故而英特(te)尔代工(gong)集团换了新名称——由本来的代工(gong)团队改成(cheng)了英特(te)尔代工(gong)服务(Intel Foundry Services),由此开(kai)启了英特(te)尔“系统(tong)代工(gong)”进展(zhan)的全新阶段。
英特(te)尔整个代工(gong)服务系列,从晶圆厂到测试再到先(xian)进封(feng)装,现在(zai)都被置(zhi)于这个新更(geng)名的英特(te)尔代工(gong)旗帜下。
看上(shang)去(qu)英特(te)尔正在(zai)借鉴台积电的做法。好比,强调英特(te)尔提供服务,不只希望为客户制造芯片(pian),而且希望成(cheng)为芯片(pian)临盆的一(yi)站式商铺。所以,除了为客户提供晶圆光刻技术(shu),英特(te)尔还向潜伏客户开(kai)放先(xian)进封(feng)装、芯片(pian)组装和测试的完备生(sheng)态。
如果客户愿意,他们将能从英特(te)尔获(huo)得完备的芯片(pian),甚至只是利用英特(te)尔提供的个性化服务,以达成(cheng)自己的目标。
超出三星:成(cheng)为环球第二
成(cheng)为仅次(ci)于台积电的环球第二大代工(gong)场(chang),这是英特(te)尔当今掌门Gelsinger的大志。他于2月26日在(zai)加州举行(xing)的晶圆代工(gong)大会(hui)上(shang)对此做了详细解释,“当我说到2030年成(cheng)为第二大代工(gong)场(chang)时,我的意义是‘针对我们的’外部(bu)代工(gong)场(chang)(仅限贸易)。”
根据(ju)Gelsinger在(zai)2021年订定的“4年5个节点”技术(shu)路线图,英特(te)尔共有5项制程节点技术(shu)(再加上(shang)此次(ci)增加的14A和10A)。
个中包含,第一(yi),传(chuan)统(tong)成(cheng)熟制程的10纳米和7纳米,对应(ying)Intel 7和Intel 4已投放市场(chang);第二,先(xian)进制程3纳米(对应(ying)Intel 3)已准备就绪,随(sui)时可大量量临盆,该制程旨在(zai)追逐台积电与三星。
第三,未来制程2nm(对应(ying)Intel 20A)和1.8nm(对应(ying)Intel 18A)也将准期上(shang)市。英特(te)尔预(yu)计,将于2025年通过(guo)intel 18A制程节点会(hui)重获(huo)制程领(ling)先(xian)性。
作为美国本土少数拥有晶圆厂、兼具设计和代工(gong)能力(li)的芯片(pian)IDM(另一(yi)种是将设计与临盆分离的Fabless无晶圆厂模式)厂商,英特(te)尔因“死磕”10nm芯片(pian)制程形成(cheng)研发上(shang)的战略失误,被疾速崛起的敌手台积电、三星赶超并甩至身后。
2020年,英特(te)尔不得不将7nm芯片(pian)的代工(gong)营业外包给台积电,5nm及3nm的大部(bu)分定单都要依赖台积电完成(cheng)。
2021年,英特(te)尔本代掌门Gelsinger上(shang)任后,最重要的战略决议就是要领(ling)导(dao)英特(te)尔重拾芯片(pian)代工(gong)营业。
为此,Gelsinger订定了三大关键战略能力(li):芯片(pian)设计、技术(shu)架构、工(gong)艺技术(shu)和大规(gui)模制造能力(li)。
随(sui)后,英特(te)尔同步在(zai)环球建厂扩大产能。目前,英特(te)尔在(zai)美国、以色(se)列和爱尔兰等地都传(chuan)出投建与改造晶圆厂的计划(hua),投资额已经(jing)超过(guo)250亿美元。2024年,英特(te)尔与位于我国台湾的环球第四大晶圆代工(gong)场(chang)联电(台积电夙敌)宣(xuan)布合作。
自从美国、欧盟芯片(pian)法案相(xiang)继(ji)出台后,芯片(pian)临盆能力(li)成(cheng)为搀扶本土半导(dao)体(ti)家当、保障供给链安全的关键。英特(te)尔被认为是两项法案当前最大的受害方(fang)之一(yi),收到了美国和欧盟的补贴大礼包,个中美国100亿美元,欧盟68亿欧元。
据(ju)TrendForce统(tong)计数据(ju)表(biao)现,2023年第二季度(du),英特(te)尔初次(ci)跻身环球前十大晶圆厂,排名第九,约占(zhan)1%的环球代工(gong)市场(chang)份额。排名前三的厂商离别是台积电、三星和格芯,离别占(zhan)57.9%、12.4%和6.2%。
“按(an)支(zhi)出(包含封(feng)装营业支(zhi)出)较(jiao)量争论,我们将成(cheng)为第二大代工(gong)场(chang)。这是我为我们团队设定的目标,这高于我从内部(bu)代工(gong)营业获(huo)得的支(zhi)出。所以它是两者的结合。”Gelsinger说,“我置(zhi)信若做得当地比较(jiao),我的外部(bu)代工(gong)场(chang)将在(zai)行(xing)业中排名第二。”